iPhone二十周年纪念版曝光：四微曲屏+屏下FaceID，中框回归大弧度

据锋潮评测，近日有媒体基于现有爆料制作了iPhone二十周年纪念版的渲染视频，展示了该机在外观上的两大核心变化。

正面方面，该机将采用四微曲屏幕，边框进一步缩窄，灵动岛彻底改为屏下方案。此前传闻iPhone18系列将换用屏下FaceID以实现单挖孔设计，但该方案并未完全实装，iPhone18Pro仅缩小了灵动岛面积。若二十周年纪念版真能量产屏下方案，安卓阵营或将面临新的跟进压力，中兴等坚持屏下摄像头的厂商则有望迎来转机。

背面方面，渲染图显示其后置摄像头可能采用横向排列布局，但分析认为旗舰机型砍掉三摄的可能性较低，超广角、主摄、长焦预计仍将保留。该设计或与即将推出的iPhoneFold保持家族式设计风格有关，也可能是受到iPhoneFold外观爆料的影响。

此外，由于采用四曲面显示屏，该机中框将从直角设计回归早期的大弧度中框，手感有望显著改善。