苹果正在研发抗反射技术：将减少拍摄炫光等问题

4月16日的消息，国外博主yeux1122的爆料指出，苹果正在测试新的抗反射光学涂层技术，旨在减少镜头炫光和鬼影等伪影，以提升照片质量。

根据供应链消息，苹果正在考虑在iPhone相机镜头制造工艺中引入新的原子层沉积（ALD）设备。原子层沉积是一种基于连续使用气相化学过程的薄膜沉积技术，通过将物质以单原子膜形式逐层镀在衬底表面的方式实现。ALD是一种纳米技术，可以以精确控制方式实现纳米级超薄薄膜沉积。

具体到相机镜头方面，ALD工艺主要用于喷涂抗反射涂层，有助于减少摄影伪影。例如，当强光源如太阳直接照射镜头时，可能导致拍摄的图像出现条纹和光晕，而ALD技术可以减少这些图像失真现象。此外，ALD应用材料还可以防止环境对相机镜头系统造成损害，同时不会影响传感器有效捕捉光线的能力。

博文指出，苹果计划将该工艺应用于iPhone的Pro系列机型，可能会在iPhone 16 Pro系列或明年的iPhone 17 Pro系列上看到。

编辑点评：iPhone用户一直对光线反射所带来的各种炫光和鬼影问题而头痛，苹果研发这一新技术有望改善照片质量，减少炫光和伪影，为用户带来更出色的拍摄体验。如果成功应用于iPhone上，将进一步巩固苹果在智能手机摄影领域的领先地位。