注册

台积电计划今年底前流片超50款7nm芯片


来源:ZOL中关村在线

原标题:台积电计划今年底前流片超50款7nm芯片 从7nm制程节点开始,EUV(极紫外光刻技术)将成

原标题:台积电计划今年底前流片超50款7nm芯片

从7nm制程节点开始,EUV(极紫外光刻技术)将成为推动未来制程工艺发展的重要技术。不过近日台积电则选择了另外的思路,决定引入DUV(深紫外光刻技术)作为过渡工艺,率先实现7nm量产以占先机,随后在导入EUV。

台积电


台积电CEO魏哲家近日驳斥了对7nm良率提升缓慢的传言。他表示可商用的7nm芯片生产已经启动,同时,在2019年底或者2020年初5nm也会投入量产。魏哲家介绍,三季度导入EUV的增强版7nm将试产,今年底前,台积电将流片超过50款7nm芯片,用于AI、GPU和加密货币领域的居多,随后是5G基带和应用处理器(AP)。

此外,魏哲家还预判,由于7nm的产出,2018年,台积电的12寸晶圆的总产能将达到120万片,比2017年的105万提升9%。

  • 好文
  • 钦佩
  • 喜欢
  • 泪奔
  • 可爱
  • 思考

频道推荐

凤凰网公益基金救助直达

凤凰网科技官方微信

凤凰新闻 天天有料
分享到: