台积电计划今年底前流片超50款7nm芯片
2018年06月23日 06:19:54
来源:ZOL中关村在线
原标题:台积电计划今年底前流片超50款7nm芯片 从7nm制程节点开始,EUV(极紫外光刻技术)将成
原标题:台积电计划今年底前流片超50款7nm芯片
从7nm制程节点开始,EUV(极紫外光刻技术)将成为推动未来制程工艺发展的重要技术。不过近日台积电则选择了另外的思路,决定引入DUV(深紫外光刻技术)作为过渡工艺,率先实现7nm量产以占先机,随后在导入EUV。
台积电CEO魏哲家近日驳斥了对7nm良率提升缓慢的传言。他表示可商用的7nm芯片生产已经启动,同时,在2019年底或者2020年初5nm也会投入量产。魏哲家介绍,三季度导入EUV的增强版7nm将试产,今年底前,台积电将流片超过50款7nm芯片,用于AI、GPU和加密货币领域的居多,随后是5G基带和应用处理器(AP)。
此外,魏哲家还预判,由于7nm的产出,2018年,台积电的12寸晶圆的总产能将达到120万片,比2017年的105万提升9%。
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